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应力诱导曲率对4H-SiCMOS平带电压和界面态密度的影响

应力诱导曲率对4H-SiCMOS平带电压和界面态密度的影响

本文摘要:碳化硅(SiC)上的栅水解膜不会严重影响SiC金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的性能。本文作者通过电容-电压(C-V)测试研究了形变/突发事件引发的曲率对栅氧界面态密度(Dit)的影响。外延晶片的曲率通过薄膜形变测量系统展开测试。 在干燥水解过程中,传输/剪切曲率造成SiO2的于是以Vfb位移(胜相同电荷),SiO2/SiC的界面态密度减少。另外,文章还找到样品的横光学(TO)声子波数与薄膜的曲率有关,这指出形变主要不会影响SiO2/SiC的界面。

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碳化硅(SiC)上的栅水解膜不会严重影响SiC金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的性能。本文作者通过电容-电压(C-V)测试研究了形变/突发事件引发的曲率对栅氧界面态密度(Dit)的影响。外延晶片的曲率通过薄膜形变测量系统展开测试。

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在干燥水解过程中,传输/剪切曲率造成SiO2的于是以Vfb位移(胜相同电荷),SiO2/SiC的界面态密度减少。另外,文章还找到样品的横光学(TO)声子波数与薄膜的曲率有关,这指出形变主要不会影响SiO2/SiC的界面。根据实验结果,本文作者明确提出“无形变”水解膜有可能是SiC-MOSFET应用于的最佳自由选择。

实验自由选择4英寸SiC全晶片展开,其可以测量由形变引发的曲率。


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